詳細摘要: 概述磁控濺射是利用磁場束縛電子的運動(即磁控管模式),其結果導至轟擊基片的高能電子的減少和轟擊靶材的高能離子的增多,使其具備了低溫、高速兩大特點
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產(chǎn)品型號:所在地:合肥市更新時間:2023-09-10 在線留言詳細摘要: 用途:本設備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜
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